Intel bruger i øjeblikket store summer penge, på at forske i den næste generation af litografisk teknologi. Litografi er den teknologi der bruges til at fremstille chips med og for at komme ned i stadigt mindre transistorstørrelser, skal fremstillingsmetoderne hele tiden forbedres. Lige nu er det specielt størrelserne under 50 nanometer man går efter.
Problemet med den teknologi Intel arbejder på, kaldet Extreme Ultraviolet Light (EUVL), er at den vil være meget dyr at bruge. Selv efter 15 års forskning og millioner af dollars er teknologien end ikke klar til brug.
En række europæiske forskere har under SOUVENIR projektet, opfundet en metode der er langt billigere og er allerede kommet ned i 10 nanometers størrelse.
Metoden forskerne er kommet frem til, kan endnu ikke bruges til massefremstilling, men de mener ikke at de er ret mange år fra dette mål. Indtil videre har forskerne, i forhold til Intel, kun brugt 3 år på udviklingen af deres teknologi.